Idealno karakteristike procesa jetkanja

Idealan postupak jetkanja trebao bi imati sljedeće ključne karakteristike kako bi se ispunili zahtjevi visoke precizne proizvode poluvodiča i ostala mikro nano obrada:

① Anizotropno jetkanje, što znači samo vertikalno jetkanje bez bočnog bušenja. Samo na taj način možemo osigurati preciznu replikaciju geometrijskih oblika identične onima na otporu na utisnutom filmu;
② Dobra selektivnost jetkanja znači da je brzina jetkanja otpornosti koja se koristi kao maska, a temeljni tanki film ili materijal znatno je niža od one u ureznom tankom filmu kako bi se osigurala učinkovitost maskiranja otpora tijekom postupka jetkanja i spriječiti oštećenje drugih materijala ispod tankog filma zbog prekomjernog etchinga;
③ Velike serije za obradu, jednostavne kontrole, niske troškove, minimalno zagađenje okoliša, pogodno za industrijsku proizvodnju.